Processus de préparation d'un moule revêtu de nano-diamant

Méthode de dépôt CVD à fil chaud :
La source d'excitation (fil chaud) est passée à travers le trou intérieur de la matrice et placée en position axiale. En contrôlant des paramètres tels que la température du fil chaud, le débit de gaz et le temps de réaction, un dépôt uniforme du revêtement de nanodiamant est obtenu. Par exemple, au stade de la nucléation, la pression de réaction du fil chaud est ajustée à 4,0～6,0 kPa, un mélange de gaz d'hydrogène et de méthane est introduit, le débit est de 1800～2300 ml/min, la fraction volumique de méthane est de 2～4 % et le temps de réaction est de 40～80 min ; au stade de la croissance, la pression de réaction est ajustée à 2,5～3,5 kPa, le débit du mélange gazeux et la fraction volumique de méthane sont ajustés en conséquence, et le temps de réaction est de 300～420 min.
Technologie de tressage multi-fils chauds :
Un fil tressé composé de plusieurs fils chauds est utilisé pour remplacer un seul fil chaud droit, permettant un revêtement uniforme du revêtement de diamant sur la surface intérieure d'une filière de tirage à grande ouverture (trou intérieur de 15～70 mm). En fonction de la filière de tirage de différents diamètres, différentes combinaisons de fils tressés sont sélectionnées pour garantir que le film de diamant est uniforme et de bonne qualité.
Technologie de revêtement composite en nanodiamant :
Le diamant conventionnel et le nanodiamant sont combinés organiquement. Sur la base du dépôt d'un revêtement de diamant conventionnel, une couche de film de nanodiamant est déposée in situ pour former un revêtement composite. Cela confère au revêtement les avantages de la résistance à l'usure et d'une forte adhérence, ainsi qu'une surface lisse, un faible coefficient de frottement, une dureté réduite et un polissage facile. Les particules de revêtement en nanodiamant ont une taille de 20～80 nm.